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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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UNIXX-SERIES德國(guó)osiris顯影機(jī)：DEVELOPER 簡(jiǎn)單介紹：德國(guó)osiris顯影機(jī)：DEVELOPER，設(shè)計(jì)用于：顯影、清潔和干燥。晶圓顯影機(jī)在半導(dǎo)體制造和微納加工領(lǐng)域起著至關(guān)重要的作用，幫助實(shí)現(xiàn)微電子元件的精密制造和微米級(jí)結(jié)構(gòu)的加工。 產(chǎn)品型號(hào)：UNIXX-SERIES 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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UNIXX S 30 D顯影機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：UNIXX S 30 D 顯影機(jī)是應(yīng)用于顯影工藝的設(shè)備，適用的基板尺寸為2英寸到12英寸的 圓片和最大到9英寸x9英寸的方片。新設(shè)計(jì)的三片式可拆卸工藝腔體可實(shí)現(xiàn)良好的工藝 均勻性和重復(fù)性，設(shè)備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 30 D的落地式柜體經(jīng)專門設(shè)計(jì)，方便操作和維修。它是一款手動(dòng)顯影機(jī)，適 用于實(shí)驗(yàn)室開展科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)。設(shè)備具有多選項(xiàng)（例如可編程流體輸送臂）并且 可以升級(jí)成自動(dòng)化 產(chǎn)品型號(hào)：UNIXX S 30 D 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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UNIXX S 20 D顯影機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：UNIXX S 20 D 顯影機(jī)是應(yīng)用于顯影工藝的設(shè)備，適用的基板尺寸最大到8英寸的圓片 和最大到6英寸x6英寸的方片。新設(shè)計(jì)的三片式可拆卸工藝腔體可實(shí)現(xiàn)良好的工藝均勻 性和重復(fù)性，設(shè)備也可用于清洗和旋干工藝。 UNIXX S 20 D的落地式柜體經(jīng)專門設(shè)計(jì)，方便操作和維修。它是一款手動(dòng)顯影機(jī)，適 用于實(shí)驗(yàn)室開展科學(xué)研究和技術(shù)開發(fā)。設(shè)備具有多選項(xiàng)（例如可編程流體輸送臂）并且 可以升級(jí)成自動(dòng)化的系統(tǒng) 產(chǎn)品型號(hào)：UNIXX S 20 D 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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LCS半自動(dòng)旋涂顯影刻蝕機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：LCS專為晶圓和平面基片的半自動(dòng)旋涂和開發(fā)而設(shè)計(jì)，將是試點(diǎn)項(xiàng)目、研究所和研發(fā)的*。 它保證了高均勻性和可重復(fù)性以及簡(jiǎn)單的操作和維護(hù)。 它可以處理最大 150 毫米的晶圓或最大 125x125 毫米的方形基片。 產(chǎn)品型號(hào)：LCS 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：SCS112型是一款高效率手動(dòng)型的濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)，專門設(shè)計(jì)用于在劃片或劃片后清洗晶片，針對(duì)8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模，晶圓和基材的亞微米級(jí)清潔的理想解決方案，針對(duì)10英寸晶圓片。 產(chǎn)品型號(hào)：SCS112/SCSe124/SCSe126 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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CESx124UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：UltraT進(jìn)口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。 產(chǎn)品型號(hào)：CESx124 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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WS-1000MLaurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列 簡(jiǎn)單介紹：自1985年起，Laurell公司向遍布所有的生物化工和半導(dǎo)體材料科研領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室提供表面涂敷工藝的解決方案，目前，*有超過15000套系統(tǒng)正在安全運(yùn)行。WS-1000M Laurell-WS半導(dǎo)體濕法刻蝕系列，全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機(jī)及顯影機(jī)，排放簡(jiǎn)便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng)，可選擇WS-1000濕法刻蝕設(shè)備，WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設(shè)備可以 產(chǎn)品型號(hào)：WS-1000M 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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WS-1000Laurell 濕法刻蝕設(shè)備 簡(jiǎn)單介紹：自1985年起，Laurell 濕法刻蝕設(shè)備是生物化工和半導(dǎo)體材料科研領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)室提供表面涂敷工藝的解決方案，目前，*有超過15000套系統(tǒng)正在安全運(yùn)行。 產(chǎn)品型號(hào)：WS-1000 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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EDC-650Hz-23NPPBLaurell-EDC勻膠顯影機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：Laurell-EDC勻膠顯影機(jī)系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導(dǎo)體前段制程的勻膠，顯影，刻蝕，沖洗，甩干等工藝，可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導(dǎo)體濕法工藝的經(jīng)驗(yàn)積累，通過對(duì)各路試劑注射的控制，對(duì)氮?dú)夂腿ルx子水綜合應(yīng)用，能夠完整實(shí)現(xiàn)樣片的干進(jìn)干出。是當(dāng)今*和經(jīng)濟(jì)的濕法處理解決方案。 產(chǎn)品型號(hào)：EDC-650Hz-23NPPB 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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EDC-650Hz-8NPPBLaurell勻膠顯影機(jī)EDC 簡(jiǎn)單介紹：Laurell勻膠顯影機(jī)EDC產(chǎn)于美國(guó)，是原裝的濕法刻蝕設(shè)備美國(guó)Laurell,Inc總部位于美國(guó)賓夕法尼亞，成立于1985年，是一家專業(yè)提供化工半導(dǎo)體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司。公司擁有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各類顯影系統(tǒng)，目前客戶已遍布。還有WS-1000濕法刻蝕設(shè)備，WS-1000m濕法刻蝕設(shè)備等多種半導(dǎo)體濕制成設(shè)備。 產(chǎn)品型號(hào)：EDC-650Hz-8NPPB 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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EDC-650Hz-23NPPBEDC濕法刻蝕顯影機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：EDC濕法刻蝕顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面顯影。 產(chǎn)品型號(hào)：EDC-650Hz-23NPPB 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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